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制造半導(dǎo)體器件或集成電路用物理氣相沉積裝置(物理氣相沉積裝置(PVD)) 8486202200
申報(bào)實(shí)例匯總
| 商品編碼 | 商品名稱 |
|---|---|
| 8486202200 | 高真空蒸著鍍膜設(shè)備 |
| 8486202200 | 高真空電子束蒸鍍系統(tǒng)（物理沉積/實(shí)驗(yàn)室用） |
| 8486202200 | 高功率脈沖磁控濺射沉積系統(tǒng) |
| 8486202200 | 鍍膜設(shè)備 |
| 8486202200 | 鍍膜機(jī)用晶片蓋板 |
| 8486202200 | 鍍膜機(jī) |
| 8486202200 | 鉑金埃爾默濺射系統(tǒng)(舊) |
| 8486202200 | 金屬鍍膜系統(tǒng) |
| 8486202200 | 金屬蒸鍍機(jī)用金屬鍍鍋 |
| 8486202200 | 蒸發(fā)臺(tái)（舊） |
| 8486202200 | 等靜壓機(jī) |
| 8486202200 | 端導(dǎo)真空濺射鍍膜機(jī) |
| 8486202200 | 離子束輔助沉積鍍膜系統(tǒng);輔助紅外器件鍍膜;沉淀金屬;牛津 |
| 8486202200 | 磁控濺射鍍膜機(jī) |
| 8486202200 | 磁控濺射設(shè)備(舊,物理氣相沉積裝置)ALCATEL COMPTECH |
| 8486202200 | 磁控濺射系統(tǒng)（鍍膜專用） |
| 8486202200 | 磁控濺射和電子束蒸發(fā)一體薄膜沉積系統(tǒng);用于基片上沉積制備金屬或氧化物薄膜材料;進(jìn)行膜層材料的沉積,并可控制沉積膜層的速率和厚度;DE |
| 8486202200 | 硅片蒸發(fā)臺(tái)(舊) |
| 8486202200 | 真空蒸發(fā)臺(tái) |
| 8486202200 | 電子束鍍膜機(jī)（物理氣相沉積裝置） |
| 8486202200 | 電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 |
| 8486202200 | 電子束蒸發(fā)臺(tái) |
| 8486202200 | 物理氣相淀積裝置PVD(舊) |
| 8486202200 | 物理氣相沉積設(shè)備（舊） |
| 8486202200 | 物理氣相沉積設(shè)備/在硅片表面 |
| 8486202200 | 物理氣相沉積設(shè)備/APPLIED牌 |
| 8486202200 | 物理氣相沉積設(shè)備(舊) |
| 8486202200 | 物理氣相沉積設(shè)備 （舊） |
| 8486202200 | 物理氣相沉積設(shè)備 |
| 8486202200 | 物理氣相沉積裝置 |
| 8486202200 | 物理氣相沉積儀 |
| 8486202200 | 濺鍍系統(tǒng) |
| 8486202200 | 濺鍍機(jī) |
| 8486202200 | 濺射機(jī) |
| 8486202200 | 濺射臺(tái)（物理氣相沉積設(shè)備） |
| 8486202200 | 濺射臺(tái)(舊) |
| 8486202200 | 濺射臺(tái) |
| 8486202200 | 舊濺射裝置/七成新 |
| 8486202200 | 小型蒸金濺射臺(tái)(舊) |
| 8486202200 | 射頻發(fā)生器(PVD裝置用)4012# |
| 8486202200 | 射頻發(fā)生器(PVD裝置用)4003# |
| 8486202200 | 射頻發(fā)生器(PVD裝置用)4002# |
| 8486202200 | 射頻發(fā)生器(PVD裝置用)4001# |
| 8486202200 | 射頻發(fā)生器(PVD裝置用)306# |
| 8486202200 | 射頻發(fā)生器(PVD裝置用)305# |
| 8486202200 | 射頻發(fā)生器(PVD裝置用)303# |
| 8486202200 | 射頻發(fā)生器(PVD裝置用)302# |
| 8486202200 | 射頻發(fā)生器(PVD裝置用)301# |
| 8486202200 | 射頻發(fā)生器(PVD裝置用)300# |
| 8486202200 | 射頻發(fā)生器(PVD裝置用)26# |
| 8486202200 | 射頻發(fā)生器(PVD裝置用)20# |
| 8486202200 | 多功能離子束聯(lián)合濺射系統(tǒng) |
| 8486202200 | 噴膠機(jī) |
| 8486202200 | 半導(dǎo)體金屬離子PVD蒸發(fā)系統(tǒng)/2004年產(chǎn)/七成新 |
| 8486202200 | 半導(dǎo)體行業(yè)用金屬濺射設(shè)備 |
| 8486202200 | 半導(dǎo)體用物理氣相沉積設(shè)備(舊) |
| 8486202200 | 半導(dǎo)體PVD真空濺射鍍膜機(jī)/2006年產(chǎn)/七成新 |
| 8486202200 | 前電極磁控濺射沉積系統(tǒng) |
| 8486202200 | 制造半導(dǎo)體器件或集成電路用物理氣相沉積裝置 |
| 8486202200 | 分子束外延腔體組件 |
| 8486202200 | 全自動(dòng)磁控離子濺射儀 |
| 8486202200 | 介質(zhì)膜蒸鍍機(jī)上的鍍鍋 |
| 8486202200 | 二氧化碳發(fā)泡機(jī) |
| 8486202200 | 丹頓真空磁控離子濺射臺(tái)濺射成膜 |
| 8486202200 | WB3100焊線機(jī) |
| 8486202200 | PVD磁控濺射鍍膜線 |
| 8486202200 | PVD |
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